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型號：ZSX Primus 400
產(chǎn)品價(jià)格：電議 采購度：207 發(fā)布時(shí)間：2023/6/8 15:28:41
儀器產(chǎn)地：日本 所屬地區： 廣東 深圳市
簡(jiǎn)要描述： Rigaku 獨特的 ZSX Primus 400 連續波長(cháng)色散 X 射線(xiàn)熒光 (WDXRF) 光譜儀為處理非常大或重的樣品而設計。該系統可接受直徑大為 400 毫米、厚度為 50 毫米和質(zhì)量為 30 千克的樣品，非常適合分析濺射靶材、磁盤(pán)，或用于多層薄膜計量或大型樣品的元素分析。
Rigaku 獨特的 ZSX Primus 400 連續波長(cháng)色散 X 射線(xiàn)熒光 (WDXRF) 光譜儀為處理非常大或重的樣品而設計。該系統可接受直徑大為 400 毫米、厚度為 50 毫米和質(zhì)量為 30 千克的樣品，非常適合分析濺射靶材、磁盤(pán)，或用于多層薄膜計量或大型樣品的元素分析。
優(yōu)點(diǎn)
帶有定制樣品適配器系統的 XRF,適應特定樣品分析需求的多功能性，可使用可選適配器插件適應各種樣品尺寸和形狀。憑借可變測量點(diǎn)（直徑 30 毫米至 0.5 毫米，具有 5 步自動(dòng)選擇）和具有多點(diǎn)測量的映射功能以檢查樣品均勻性。
具有可用相機和特殊照明的 XRF,可選的實(shí)時(shí)攝像頭允許在軟件中查看分析區域。
仍保留了傳統儀器的所有分析能力。
安全性
采用上照射設計,樣品室可簡(jiǎn)單移出，再不用擔心污染光路，清理麻煩和增加清理時(shí)間等問(wèn)題。
固體、液體、粉末、合金和薄膜的元素分析:
濺射靶材組成.
隔離膜：SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si₃N₄、SiOF、SiON等。
高 k 和鐵電介質(zhì)薄膜：PZT、BST、SBT、Ta2O5、HfSiOx
金屬薄膜：Al-Cu-Si、W、TiW、Co、TiN、TaN、Ta-Al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。
電膜：摻雜多晶硅（摻雜劑：B、N、O、P、As）、非晶硅、WSix、Pt等。
其他摻雜薄膜（As、P）、困惰性氣體（Ne、Ar、Kr等）、C（DLC）
鐵電薄膜、FRAM、MRAM、GMR、TMR；PCM、GST、GeTe
焊料凸點(diǎn)成分：SnAg、SnAgCuNi
MEMS：ZnO、AlN、PZT的厚度和成分
SAW器件工藝：AlN、ZnO、ZnS、SiO 2（壓電薄膜）的厚度和成分；Al、AlCu、AlSc、AlTi（電膜）
大樣本分析：大 400 毫米（直徑），大 50 毫米（厚度），高達 30 千克（質(zhì)量）
樣品適配器系統，適用于各種樣本量
測量點(diǎn)：30 毫米至 0.5 毫米直徑，5步自動(dòng)選擇
映射能力，允許多點(diǎn)測量
樣品視圖相機（可選）
分析范圍：Be - U
元素范圍：ppm 至 %
厚度范圍：sub Å 至 mm
衍射干擾抑制（可選）：?jiǎn)尉бr底的準確結果
符合行業(yè)標準：SEMI、CE標志
占地面積小，以型號的 50% 占地面積
更新時(shí)間：2024/6/14 9:53:26
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